純金屬及金屬合金濺射靶材列表
濺射靶材主要應用于電子及信息產業，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應用于玻璃鍍膜領域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業
分類
根據形狀可分為長靶，方靶，圓靶，異型靶
根據成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
根據應用領域分為微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電極靶材、封裝靶材、其他靶材
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金屬名稱
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含量
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熔點
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蒸發源
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形狀
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鈦
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2N6,4N,5N
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1668℃
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B
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顆粒，片
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鎳
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2N6,3N
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1453℃
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EB
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顆粒，片
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鋯
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2N5
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1890℃
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EB
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顆粒，片
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鎢
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3N5
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3410±20℃
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EB
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顆粒，片
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鉬
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3N5
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2620℃
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EB
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顆粒，片
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鉭
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3N5
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2996℃
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EB
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顆粒，片
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鈮
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3N5
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2468℃
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EB
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顆粒，片
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鈷
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3N8
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1495℃
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EB
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顆粒，片
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